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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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寬幅等離子表面處理機(jī)

CRF-APS- 500W

自動(dòng)式等離子處理系統(tǒng)大氣等離子清洗機(jī)應(yīng)用于FPC&PCB表面處理，復(fù)合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理；

首創(chuàng)超低溫處理過(guò)程，處理溫度可≤35°C以下；

專利設(shè)計(jì)的內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能；

等離子設(shè)備可以使用On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達(dá)10eV以上，材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

      等離子清洗機(jī)，又名等離子處理機(jī)，等離子表面處理設(shè)備。其基本原理是：在清理過(guò)程中，由工作中氣體在磁場(chǎng)的作用下所激起的等離子體與物件表層產(chǎn)生物理學(xué)和化學(xué)變化。物理反應(yīng)原理是活性顆粒轟擊待清理表層，使污染物擺脫表層，污染物被排出；化學(xué)變化原理是各種各樣活性顆粒與污染物反應(yīng)形成揮發(fā)物化學(xué)物質(zhì)抽出，進(jìn)而做到清理目的。一般用以氫、氮、氧、氬等工作氣體。

深圳誠(chéng)峰智造等離子清洗機(jī)

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    認(rèn)真對(duì)待每一次設(shè)備試驗(yàn)

  • 嚴(yán)格的質(zhì)量控制

    設(shè)備出廠前連續(xù)24小時(shí)運(yùn)行調(diào)試

  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

  • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

    專注等離子研發(fā)20年，服務(wù)多種行業(yè)

  • 可特殊定制設(shè)備

    完全按照客戶需求制作設(shè)備

多項(xiàng)專利證書，廠家實(shí)力認(rèn)證

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