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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

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大氣常壓等離子清洗機

CRF-APO-R&D-XXXHD

采用PFC全橋數(shù)字式等離子電源,輸出功率穩(wěn)定,抗干擾能力強,反應(yīng)迅速;

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;

可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;

13632675935

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

名稱 自動On-LineAP等離子處理系統(tǒng)
等離子電源型號型號 CRF-APO-R&D-XXXHD
旋轉(zhuǎn)式等離子噴槍型號 旋噴式:RXX(Option:20mm-80mm)
電源 220V/AC,50/60Hz
功率 600-1000W20KHz(Option)
功率因素 0.98
處理高度
5-15mm
處理寬幅 旋噴式:20-80mm(Option)
內(nèi)部控制模式
數(shù)字控制
外部控制模式
RS485/RS232、迷你通訊口、啟停I/O
工作氣體
Compressed AIR (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
電源重量
10kg

應(yīng)用范

      等離子表面處理儀主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

      等離子清洗設(shè)備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經(jīng)等離子處理后,能提升材料表層的濕潤性,使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作,提高粘結(jié)力和鍵合能力,另外還可以除去有機化學(xué)污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性,接枝層會與表層分子結(jié)構(gòu)中間產(chǎn)生化學(xué)鍵,使其具備優(yōu)良的使用性能。

      等離子清洗設(shè)備采用高精密的數(shù)控加工技術(shù),具備高精密的全自動清洗機械裝置,時間控制度高;等離子體的恰當(dāng)清理不會對其表層造成損害,產(chǎn)品的工藝性能獲得確保;它是一種綠色環(huán)保的清洗加工工藝,不會造成環(huán)境污染,防止了人為失誤的危害,清理表層不會受到二次污染。等離子清洗機具備線上生產(chǎn)量,并可完成自動式清理。等離子體清洗不會受到幾何圖形樣子的限定,能夠?qū)π×慵⑺苣z板材、無防布、紡織產(chǎn)品、橡膠軟管、內(nèi)腔pcb線路板等開展表面處理。零件不會產(chǎn)生機械形變,是一種高質(zhì)量加工工藝;且考慮凈化車間等嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn),方便使用靈活實際操作簡易,對各種形狀的零件處理成效顯著,加工工藝可控,低成本,效果非常的好,而且時間較短。生產(chǎn)加工過的產(chǎn)品外型不會遭受等離子體處理的高低溫影響,零件非常少遇熱。等離子清洗機具備運作花費低、加工工藝安全、實際操作安全性高等優(yōu)勢,也是一種處理后成效顯著的清洗生產(chǎn)流程。

如何理解等離子清洗設(shè)備中的這兩種化學(xué)反應(yīng)?實際應(yīng)用是什么?

       等離子清洗設(shè)備中的化學(xué)反應(yīng),您真的知道是什么嗎
       用等離子清洗設(shè)備對固體材料進行表面處理時,一般都會涉及到物理和化學(xué)反應(yīng),而化學(xué)反應(yīng)主要有2種類型,那么對于2種化學(xué)反應(yīng)又該如何理解呢?還將有哪些具體的實際應(yīng)用?
       考慮到化學(xué)反應(yīng)方程的解釋更加方便和直觀,接下來也將通過等離子清洗設(shè)備表面處理過程的反應(yīng)方程為大家講解。在下列反應(yīng)式中,大寫字母A、B、C、D、M分別表示不同的物質(zhì);小寫字母s、g分別表示物質(zhì)的固體形態(tài)和氣體形態(tài)。

化學(xué)式為A(g)+B(g)→C(s)+D(g)的等離子體表面處理工藝:
       類型的等離子清洗設(shè)備的化學(xué)反應(yīng),通常包含兩種以上的反應(yīng)性氣體,產(chǎn)生的等離子體能與固體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),這種特殊工藝應(yīng)用包括等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)、等離子濺射和等離子體聚合。
       等離子增強化學(xué)氣相沉積法PECVD通常是將兩種或兩種以上工藝氣體在等離子體狀態(tài)下反應(yīng),生成新的固體物質(zhì),并在材料基底上形成一層薄膜物質(zhì),這種工藝目前已廣泛應(yīng)用于光學(xué)膜制備等領(lǐng)域。
       等離子體濺射也是利用兩種或更多的氣體電離成等離子體進行的反應(yīng),不同的是,其中一種反應(yīng)物是首先利用荷能粒子從靶材上濺射下來,然后通過反應(yīng)生成薄膜,這屬于濺射制膜范疇。
       至于等離子清洗設(shè)備等離子體聚合過程,實際上就是等離子體發(fā)生的反應(yīng)物是有機單體。

化學(xué)反應(yīng)式為A(g)+B(g)+M(s)→AB(g)+M的等離子表面處理工藝:
       這種反應(yīng)過程代表了固體材料M的表面主要起催化作用,并能促進氣體分子的離解和復(fù)合等作用。在這類等離子清洗設(shè)備等離子體反應(yīng)中,常被用于特殊氣體制備領(lǐng)域。

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