20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
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半導(dǎo)體等離子蝕刻機(jī)在真空環(huán)境下的原理優(yōu)勢(shì): 在光刻技術(shù)中，半導(dǎo)體表面會(huì)出現(xiàn)殘膠，這就需要一個(gè)好的方法進(jìn)行處理，將殘膠清除的同時(shí)不會(huì)對(duì)產(chǎn)品造成損傷，等離子蝕刻機(jī)就是這樣的一個(gè)設(shè)備...
發(fā)布時(shí)間:2023-07-17
一、CRF超低溫plasma清潔技術(shù)簡(jiǎn)述超低溫plasma清理是一種應(yīng)用廣泛的表面處理工藝，其根據(jù)使用帶有活力物種等離子來消除殘?jiān)⒂袡C(jī)化合物和二氧化硅等表層污染物質(zhì)。與傳統(tǒng)持續(xù)高溫化學(xué)物理清潔方法對(duì)比，超低溫plasm...
發(fā)布時(shí)間:2023-07-12
線路板等離子發(fā)生器的應(yīng)用相當(dāng)普遍： 在制作印刷線路板的過程中，特別是高密度互連板，需進(jìn)行孔型金屬化處理，利用金屬化的孔來實(shí)現(xiàn)層間的電氣導(dǎo)通。激光孔或機(jī)械孔鉆孔經(jīng)常出現(xiàn)殘余物附...
發(fā)布時(shí)間:2023-07-07
低溫等離子體清理能夠?qū)崿F(xiàn)的功能的1種,改善纖維或織物的吸濕、潤(rùn)濕性： 使用低溫等離子體中處于激發(fā)態(tài)的各類高能粒子的物理刻蝕和化學(xué)反應(yīng),或者利用等離子體的接枝、聚合沉積等方式,可在紡織品...
發(fā)布時(shí)間:2023-06-29
CRF電漿清洗機(jī)處理法對(duì)聚碳酸酯材料表面改性原理 CRF電漿清洗機(jī)對(duì)PC聚碳酸酯的表面改性是指利用等離子體與材料表面的相互作用，在表面上形成新的官能團(tuán)和改變聚合物鏈結(jié)構(gòu)，改善親水性、...
發(fā)布時(shí)間:2023-06-24在
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